vray二次反弹设置(vr二次反弹在哪里设置)优质

渲染慢是很多人都会遇到的问题,如果你的三维模型、灯光以及材质都已经做了最简化的修改可是还无法提高渲染速度,那么这时就要考虑下是不是渲染器的设置不够完善。

Vray渲染器的速度与抗锯齿、全局光引擎、QMC采样器这三个设置有关。

vray二次反弹设置(vr二次反弹在哪里设置)

一、全局光引擎

Vray渲染器为3DMAX制作提共了4种不则的全局光引擎:也就是光子贴图、发光贴图、准蒙特卡洛算法以及灯光缓冲4种不同的可以在首次反弹与二次反弹中相互配合使用。

1、在室内商业效果图的制作中,使用发光贴图配合灯光缓冲方式进行计算,是取得渲染时间与图像品质平衡的最好选择。

2、在二次反弹选项中,倍增器的值决定场景照明中二次漫射反弹的效果,增加这个值可以使渲染的图像更明亮,同时也会增加渲染时间

3、在首次反弹中,倍增器的值决定场景照明中首次漫射反弹的效果。增加这个值可以使渲染的图像更明亮,同时也会增加渲染时间。

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二、抗锯齿

Vray渲染器为我们提供了3种不同的图像采样器反锯齿方式,反锯齿采样“的概念是指采样和过滤的一种算法,并产生最终的像素组来完成图像的渲染。

1、固定图像采样器:对于具有大量模糊特效或高细节的纹理贴图场景,使用其是兼顾图像品质与渲染时间的最好选择。

2、自适应细分图像采样器:对于没有Vray模糊特效直接GI、景深、运动模糊等的场景中,采用这个是最好的选择。

3、自适应准蒙特卡洛图像采样器:当一个场景具有高细节的纹理贴图或大量几何学细节而只有少量模糊特效的时候,选择这个采样器是非常不错的。

3、QMC采样器

QMC就是“准蒙特卡洛”采样器。可以说它就像Vray渲染器的大脑,贯穿于Vray的每一种“模糊”评估中,QMC采样一般用于确定什么样的样本,以及最终哪些样本被光线追踪。

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